高真空膜渗透设备

高真空膜渗透设备该高真空膜渗透装置内部阀控部件全部采用日本进口CKD电磁阀程序控制，该装置结构布局合理，操作便捷，可实现膜渗透实验的稳定进行。该设备工作温度室温8~60℃，工作压力为0~1Mpa，真空度可低至3 Pa。设备通讯模块皆采用rs485通讯连接，采集数据稳定，可实验自动循环抽真空和手动抽真空等操作。

工作温度：室温8~60℃

真空度：3 Pa

使用压力：0~1Mpa

高真空膜渗透设备可用于测试0-10mpa压力范围内的动态多元材料吸附测试；设备安装稳定的背压阀及气体高压仓，用于快速稳定的实现系统压力稳定及气体流速稳定。